中国科学家自主研制成功新型光刻机取得专利20余项

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来源：新华社

新华社成都３月２３日电记者２３日从中科院光电技术研究所获悉，该所微电子专用设备研发团队自主研制成功紫外纳米压印光刻机。

据中科院光电所微电子装备总体研究室主任胡松介绍，该所自主研发的新型光刻机，将纳米压印这一新型高分辨力光刻技术，与具有低成本、高效率特点的紫外光刻技术有机结合。

记者了解到，这套设备采用新型纳米对准技术，将原光刻设备的对准精度由亚微米量级提升至纳米量级。对准是光刻设备三大核心指标之一，是实现功能化器件加工的关键。该所在国家自然基金的连续资助下，完成基于莫尔条纹的高精度对准技术自主研发，取得专利２０余项。

“该技术在光刻机中的成功应用突破了现有纳米尺度结构加工的瓶颈问题，为高精度纳米器件的加工提供了技术保障。”胡松说。

据悉，该设备可广泛应用于微纳流控芯片加工、微纳光学元件、微纳光栅、ＮＭＥＭＳ器件等微纳结构器件的制备，具有广阔的应用前景，目前已完成初试和小批生产，并已在高校与企业用户中推广。

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